Experimental and simulation approach for process optimization of atomic layer deposited thin films in high aspect ratio 3D structures

Autor(en):

Schwille, Matthias C.; Schoessler, Timo; Barth, Jonas; Knaut, Martin; Schoen, Florian; Hoechst, Arnim; Oettel, Martin; Bartha, Johann W.

Tübinger Autor(en):

Erschienen in:

Journal of Vacuum Science & Technology A (2017), Bd. 35, Article 01B118

Verlagsangabe:

A V S Amer Inst Physics

Sprache:

Englisch

Referenz zum Volltext:

ISSN:

1520-8559

DDC-Klassifikation:

530 - Physik
600 - Technik

Dokumentart:

Wissenschaftlicher Artikel

Das Dokument erscheint in: