Electronic Structure and Stability of Fluorophore-Nitroxide Radicals from Ultrahigh Vacuum to Air Exposure
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Autor(en):
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Kakavandi, R.; Ravat, P.; Savu, S-A; Borozdina, Y. B.; Baumgarten, M.; Casu, M. B.
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Tübinger Autor(en):
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Erschienen in:
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Acs Applied Materials & Interfaces
(2015), Bd.
7,
H.
3,
S.
1685-1692
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Verlagsangabe:
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Amer Chemical Soc
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Sprache:
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Englisch
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Referenz zum Volltext:
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http://dx.doi.org/10.1021/am508854u
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ISSN:
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1944-8244
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DDC-Klassifikation:
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600 - Technik
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Dokumentart:
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Wissenschaftlicher Artikel
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