Ion- and temperature-induced 3-dimensional nanoscale patterning in Ti1-xAlxN deposited by High Power Impulse Magnetron Sputtering

Autor(en):

Warres, Clementine; Meyer, J. C.; Lutz, T.; Albrecht, P.; Engelhart, W.; Schroeppel, B.; Kuemmel, J.

Tübinger Autor(en):

Erschienen in:

Thin Solid Films (2023), Bd. 781, Article 139977

Verlagsangabe:

Lausanne : Elsevier Science Sa

Sprache:

Englisch

Referenz zum Volltext:

ISSN:

0040-6090

DDC-Klassifikation:

600 - Technik
530 - Physik

Dokumentart:

Wissenschaftlicher Artikel

Das Dokument erscheint in: